- GB/T 5059.6-2007 钼铁 磷含量的测定 铋磷钼蓝分光光度法和钼蓝分光光度法
- GB/T 4161-2007 金属材料 平面应变断裂韧度KIC试验方法
- GB/T 14040-2007 预应力混凝土空心板
- GB/T 21087-2007 空气-空气能量回收装置
- GB/T 223.80-2007 钢铁及合金 铋和砷含量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法
- GB/T 8654.1-2007 金属锰、锰硅合金、锰铁和氮化锰铁 铁含量的测定 邻二氮杂菲分光光度法和三氯化钛 - 重铬酸钾滴定法
- GB/T 223.81-2007 钢铁及合金 总铝和总硼含量的测定 微波消解-电感耦合等离子体质谱法
- GB/T 11093-2007 液封直拉法砷化镓单晶及切割片
- GB/T 6400-2007 金属材料 线材和铆钉剪切试验方法
- GB/T 7737-2007 铌铁
GB/T 11073-2007 硅片径向电阻率变化的测量方法
标准编号:GB/T 11073-2007
标准名称:硅片径向电阻率变化的测量方法
英文名称:Standard method for measuring radial resistivity variation on silicon slices
发布日期:2007-09-11
实施日期:2008-02-01
归口单位:中国有色金属工业协会
执行单位:中国有色金属工业协会
主管部门:中国有色金属工业协会
起草人
起草单位
峨嵋山半导体材料厂
标准范围
本标准规定了用直排四探针法测量硅单晶片径向电阻率变化的方法。本标准适用于厚度小于探针平均间距、直径大于15 mm、电阻率为1X10-3Ω·cm~3×103 Ω·cm硅单晶圆片径向电阻率变化的测量。