GB/T 4058-2009 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

标准编号：GB/T 4058-2009

标准名称：硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法

英文名称：Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers

发布日期：2009-10-30

实施日期：2010-06-01

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门：国家标准化管理委员会

起草人

何兰英、王炎、张辉坚、刘阳

起草单位

峨嵋半导体材料厂

标准范围

u3000u3000本标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法。 u3000u3000本标准适用于硅抛光片表面区在模拟器件氧化工艺中诱生或增强的晶体缺陷的检测。 u3000u3000硅单晶氧化诱生缺陷的检验也可参照此方法。

标准文档截图