GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

标准编号：GB/T 14849.4-2014

标准名称：工业硅化学分析方法 第4部分：杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

英文名称：Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

发布日期：2014-12-05

实施日期：2015-08-01

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

执行单位：全国有色金属标准化技术委员会

主管部门：中国有色金属工业协会

起草人

刘维理、王劲榕、杨毅、李跃平、赵德平

起草单位

昆明冶金研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、中国铝业股份有限公司郑州研究院、云南出入境检验检疫局技术中心等

标准范围

GB／T14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。 本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、、镍、铜、铬、钒、镁、钻、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。

标准文档截图