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T/CPPIA 34-2024 光致抗蚀干膜用聚酯基膜
标准编号：T/CPPIA 34-2024
标准名称：光致抗蚀干膜用聚酯基膜
英文名称：Polyester base film for photoresist dry film
发布日期：2024-01-25
实施日期：2024-02-01
团体名称：中国塑料加工工业协会
起草人
叶世强、孟凡、毛广源、胡爱娟、袁文新、刘俊萍、陈正坚、郭凤刚、张文闯
起草单位
富维薄膜（山东）有限公司、常州钟恒新材料股份有限公司、杭州和顺科技股份有限公司、康辉新材料科技有限公司
标准范围
本文件规定了光致抗蚀干膜用聚酯基膜（以下简称“基膜”）的术语和定义、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输及贮存。
适用于以聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂为主要原料，添加适量母料，经熔融挤出、双向拉伸工艺制成的用于光致抗蚀干膜用途的聚酯薄膜的生产、检验和销售。