ISO/TR 16268:2009 表面化学分析-核证离子注入产生的工作标准物质中保留面剂量的建议规程

标准编号：ISO/TR 16268:2009

中文名称：表面化学分析-核证离子注入产生的工作标准物质中保留面剂量的建议规程

英文名称：Surface chemical analysis — Proposed procedure for certifying the retained areic dose in a working reference material produced by ion implantation

发布日期：2009-10

标准范围

ISO/TR 16268:2009规定了用于表面分析用途的工作参考材料（WoRM）中原子序数大于硅原子序数的离子注入分析物元素的areic剂量认证程序。WoRM是抛光的(或类似的表面光滑的)晶片(也称为主体)的形式，具有均匀的组成和50mm或更大的标称直径，其已经用标称一种化学元素同位素(也称为分析物)离子注入，标称剂量通常在1016原子/cm2至1013原子/cm2的范围内(即，半导体技术中主要关注的范围)。保留在WoRM晶片中的离子注入分析物的areic剂量相对于保留在离子注入晶片中的相同分析物的areic剂量进行认证。具有(优选认证的)二级参考材料(SeRM)状态的植入硅晶片。提供了关于WoRM认证的概念和程序的信息。还描述了参考材料、比较测量和实际认证的要求。离子注入、离子注入剂量测定、波长色散X？射线荧光光谱和不可获得的SeRMs的未经认证的替代品在四个附录中提供。第五个附件详细说明了认证过程中出现的不确定性的来源和程度。

标准预览图