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ISO 8181:2023 原子层沉积 词汇
标准编号：ISO 8181:2023
中文名称：原子层沉积 词汇
英文名称：Atomic layer deposition — Vocabulary
发布日期：2023-10
标准范围
本文件定义了原子层沉积（ALD）的一般术语和薄膜生长过程。根据前体在衬底上的连续表面反应之间的分离，ALD技术分为常规时间分离ALD和空间ALD。除了平面基材外，ALD还可用于微纳米颗粒上的涂层，这是作为粉末ALD开发的。还包括一些能量增强ALD技术。本文档规定了不同ALD方法的流程。本文件适用于ALD过程。本文件不适用于沉积的材料或特定的纳米结构。本文件适用于与ALD相关的工业生产、科学研究、教学、出版和科技传播。
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