YS/T 1768-2025 硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法

标准编号：YS/T 1768-2025

标准名称：硅多晶生产用石墨制品表面杂质含量的测定 电感耦合等离子体光谱法

英文名称：Graphite productsfor the production of silicon polycrystals determination of surface impurities content— Inductively coupled plasma spectrometric method

发布日期：2025-04-10

实施日期：2025-11-01

提出单位：全国有色金属标准化技术委员会

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

王彬、王春明、赵娟龙、刘杏杏、邱艳梅、耿全荣、董先君、胡议允、魏东亮、李素青、李蔚、侯海波、孟凡莉、曹俊英、吕尊华、公丕涛、蔡云鹏

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司、新疆戈恩斯能源科技有限公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、乐山协鑫新能源科技有限公司、青海南玻新能源科技有限公司、内蒙古鑫元硅材料科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、青海芯测科技有限公司、内蒙古通威高纯晶硅有限公司、上海赛夫特半导体材料有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、四川福碳新材料科技有限公司、珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司、宜昌南玻硅材料有限公司

标准范围

本文件描述了硅多晶生产用石墨制品表面中钠、镁、铝、钾、钙、铬、铁、镍、铜、锌、砷、铅、锰硼、磷等元素含量的电感耦合等离子体光谱测定方法。

本文件适用于硅多晶生产用石墨制品中表面杂质元素含量的测定，各元素测定下限见表1。

标准文档截图