YS/T 1755-2025 颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

标准编号：YS/T 1755-2025

标准名称：颗粒硅总金属杂质含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

英文名称：Determination of total metal impurities in silicon particles- Inductively coupled plasma mass spectrometr

发布日期：2025-04-10

实施日期：2025-11-01

提出单位：全国有色金属标准化技术委员会

归口单位：全国有色金属标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

王春明、王彬、王胜男、王颖、黄金发、李朋飞、胡议允、邱艳梅、赵娟龙、田润朝、贺东江、李素青、刘文明、李春阳、慕道焱、马淑霞、曹俊英、胡阳、楚东旭、陶刚义、徐俊俊

起草单位

江苏中能硅业科技发展有限公司、陕西有色天宏瑞科硅材料有限责任公司、新疆新特新能材料检测中心有限公司、乐山协鑫新能源科技有限公司、内蒙古鑫元硅材料科技有限公司、新疆戈恩斯能源科技有限公司、亚洲硅业（青海）股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司、宜昌南玻硅材料有限公司、中环领先半导体科技股份有限公司、内蒙古通威高纯晶硅有限公司、青海芯测科技有限公司、洛阳中硅高科技有限公司、四川永祥新能源有限公司、天合光能（青海）新能源有限公司、内蒙古兴洋科技股份有限公司、珀金埃尔默企业管理（上海）有限公司

标准范围

本文件描述了电感耦合等离子体质谱仪（ICP-MS)测定流化床法颗粒硅中总金属杂质含量的方法。

本文件适用于流化床法颗粒硅总金属杂质，如铁、铬、镍、铜、钠、镁、铝、钾、钙、锌、钛、钼、钨、钻含量的测定，各元素检测范围为0.05ng/g~50ng/g。

标准文档截图