SJ/T 12023-2025 半导体设备 集成电路制造用化学气相淀积设备(CVD)测试方法

标准编号：SJ/T 12023-2025

标准名称：半导体设备 集成电路制造用化学气相淀积设备(CVD)测试方法

英文名称：Semiconductor equipment-Test method of chemical vapor deposition (CVD) equipment for integrated circuit (IC) manufacturing

发布日期：2025-09-09

实施日期：2026-03-01

提出单位：中国电子技术标准化研究院

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

南江、任翔、管端端、秦海丰、王昊、刘志鑫、倪昊、谭瑞珑、陈思亮、周仁、黎微明、王卓、王佳方、邓启华、陈长平、李昭、王阜、刘峰松、闫晓晖、王伟华、苗培仁、朱文龙、赵英伟、马培圣、李波、陶近翁、王向荣、孙劲松、陈炳安、封拥军、马敬伟、王世宽、张新峰、李国平、张星星

起草单位

中国电子技术标准化研究院、北京北方华创微电子装备有限公司、中芯国际集成电路制造（上海）有限公司、赛西（深圳）电子信息产品标准化工程中心有限公司、江苏微导纳米科技股份有限公司、中国电子科技集团公司第四十八研究所、长鑫科技集团股份有限公司、拓荆科技股份有限公司、上海积塔半导体有限公司、江阴市辉龙电热电器有限公司、上海集迦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、上海卡贝尼精密陶瓷有限公司、吉姆西半导体科技（无锡）股份有限公司、深圳市纳设智能装备股份有限公司、上海隆通半导体能源科技股份有限公司、江苏富乐华半导体科技股份有限公司、无锡尚积半导体科技有限公司、江苏卓远半导体有限公司、上海赛西科技发展有限责任公司

标准范围

本文件描述了集成电路制造用化学气相淀积（CVD）设备的测试方法。

本文件适用于集成电路制造中使用的CVD设备在技术开发、出厂检测、客户端验证、第三方测试等阶段的测试。其他半导体产品制造用的CVD设备或其他阶段的测试可参照使用。

标准文档截图