YS/T 981.1-2024 高纯铟化学分析方法 第1部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
标准编号:YS/T 981.1-2024
标准名称:高纯铟化学分析方法 第1部分:痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法
英文名称:Methods for chemical analysis of high purity indium- Part 1 :Determination of trace impurity elements content- Glow discharge mass spectrometry
发布日期:2024-10-24
实施日期:2025-05-01
提出单位:全国有色金属标准化技术委员会
归口单位:全国有色金属标准化技术委员会、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
批准发布部门:工业和信息化部
起草人
刘红、向清华、金智宏、谭秀珍、徐成、彭伟校、黎亚文、廖吉伟、汪洋、刘鹏宇、刘智鹏、赵景鑫、陈丽诗、李铭、卢鹏荐、张林、曹昌威、唐朝辉
起草单位
国标(北京)检验认证有限公司、株洲科能新材料股份有限公司、广东先导微电子科技有限公司、东方电气(乐山)峨半高纯材料有限公司、云南驰宏国际锗业有限公司、朝阳金美镓业有限公司、云南锡业集团(控股)有限责任公司、北京清质分析技术有限公司、武汉拓材科技有限公司、楚雄川至电子材料有限公司
标准范围
本文件描述了辉光放电质谱法测定高纯铟中痕量杂质元素含量的方法。
本文件适用于高纯铟中杂质元素含量的测定,测定元素及其范围见表1。