SJ/T 12024-2025 半导体设备 集成电路制造 用离子注入机测试方法

标准编号：SJ/T 12024-2025

标准名称：半导体设备 集成电路制造 用离子注入机测试方法

英文名称：Semiconductor equipmentTest method of ion implantation equipment for integrated circuit (IC)manufacturing

发布日期：2025-09-09

实施日期：2026-03-01

提出单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会

批准发布部门：工业和信息化部

起草人

南江、任翔、管端端、倪昊、李进、李士会、高国珺、聂羚、谢均宇、卓祖亮、谭瑞琥、陈思亮、郑红应、彭立波、宋秀云、曾繁中、王莉菲、吴贤勇、刘仁杰、朱文龙、崔瑞军、娄畅、杨建中、兰立广、李殿浦、田涛、陶近翁、王向荣、赵英伟、文黎波、桑龙、张新峰、李国平、钟晓兰、刘纪铨、靖伯超、张星星

起草单位

中国电子技术标准化研究院、中芯国际集成电路制造（上海）有限公司、北京烁科中科信电子装备有限公司、青岛四方思锐智能技术有限公司、赛西（深圳）电子信息产品标准化工程中心有限公司、中国电于科技集团公司第四十八研究所、上海积塔半导体有限公司、浙江中科尚弘离子装备工程有限公司、上海集迦电子科技有限公司、上海凯世通半导体股份有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、上海卡贝尼精密陶瓷有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、江苏卓远半导体有限公司、上海集成电路研发中心有限公司、上海赛西科技发展有限责任公司

标准范围

本文件描述了集成电路制造用离子注入机的测试方法。

本文件适用于集成电路制造中使用的离子注入机在技术开发、出厂检测、客户端验证、第三方测试等阶段的测试。其他半导体产品制造用的离子注入机或其他阶段的测试可参照使用。

标准文档截图